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半导体材料氢氟酸以及氢氟酸废液废气焚烧炉

半导体材料氢氟酸以及氢氟酸废液废气焚烧炉

  • 分类:行业资讯
  • 作者:江苏大鸿环保设备有限公司
  • 来源:大鸿环保
  • 发布时间:2021-04-19
  • Visits:0

【摘要】高纯度氟化氢即电子级氢氟酸,主要用于芯片、液晶面板等行业的清洗、蚀刻,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 。根据用途的不同,电子级氢氟酸被分为EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS级别,其中UPSS、UPSSS是高端半导体级别。

半导体材料氢氟酸以及氢氟酸废液废气焚烧炉

【摘要】高纯度氟化氢即电子级氢氟酸,主要用于芯片、液晶面板等行业的清洗、蚀刻,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 。根据用途的不同,电子级氢氟酸被分为EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS级别,其中UPSS、UPSSS是高端半导体级别。

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  • 作者:江苏大鸿环保设备有限公司
  • 来源:大鸿环保
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高纯度氟化氢即电子级氢氟酸,主要用于芯片、液晶面板等行业的清洗、蚀刻,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 。根据用途的不同,电子级氢氟酸被分为EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS级别,其中UPSS、UPSSS是高端半导体级别。氢氟酸需求增长潜力最大的领域是电子级氢氟酸,电子级氢氟酸主要用于去除氧化物,是半导体制作过程中应用最多的电子化学品之一。电子级氢氟酸主要运用在集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域,其中第一大应用市场是集成电路领域。目前日本掌控了全球接近90%的高品质电子级氢氟酸产能,占据绝对领先地位。国内电子级氢氟酸生产厂家有十家左右,现有产能9万吨左右,但国内能达到半导体所用UPSS级别的企业并不多。 

       据媒体报道,由于日本的半导体和显示材料出口限制。由于氟化氢的腐蚀性极强,无法长期保存,韩国企业一直是小批量进口。目前三星电子的氟化氢存库可能仅仅还能维持几周时间。据业内推测,目前三星电子的氟化氢存库可能仅仅还能维持几周时间,其他韩国半导体企业也不容乐观。半导体原材料在投入量产前需经过1-6个月左右的测试,特别是氟化氢的纯度对半导体产品的品质影响极大,短期内其他产品很难立即填补日产氟化氢空缺。
 

其实氟化氢更为人所熟知的大概就是腐蚀玻璃了,所以要用塑料容器来盛装它,《绝命毒师》里也常用氢氟酸来处理尸体。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成气态的四氟化硅 

反应方程式如下:SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2H2O(l)

 

氟化氢(hydrogen fluoride),化学式HF,是由氟元素与氢元素组成的二元化合物。它是无色有刺激性气味的气体 。氟化氢是一种一元弱酸。氟化氢及其水溶液均有毒性,容易使骨骼、牙齿畸形,氢氟酸可以透过皮肤被黏膜、呼吸道及肠胃道吸收,中毒后应立即应急处理,并送至就医。与五氟化锑混合后生成氟锑酸(HSbF6)。

 

化学性质

1.具有很强的腐蚀性,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅,但不腐蚀聚乙烯、铅和白金;

2.极易挥发,置于空气中即冒白雾,溶于水时激烈放热而成氢氟酸;

3.与金属盐、氧化物、氢氧化物作用生成氟化物;

4.能与普通金属发生反应,放出氢气而与空气形成爆炸性混合物;

5.氟化氢对热稳定,加热到1000℃仅稍有分解;

6.与硅和硅化合物反应生成气态的四氟化硅:

SiO2(s)+ 4 HF(aq)→ SiF4(g) + 2H2O(l)

生成的SiF4可以继续和过量的HF作用,生成氟硅酸:SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq),氟硅酸是一种二元强酸;

7.氢氟酸在水溶液中有两个平衡:

  1. HF=H+ F- k1=7.2*10-4,

  2. HF+F-=HF2- k2=5.2

此时随着浓度增大(大于5mol),HF已经是 相当强的强酸了。

8、氢氟酸能形成酸式盐,氢氟酸本是一元酸,但能制得一系列的酸式盐如NaHF2、KHF2、NH4HF2等 ,这种性质是其他三种氢卤酸所不具有的。

 

用途

1、主要用作含氟化合物的原料,也用于氟化铝和冰晶石的制造,半导体表面刻蚀及用作烷基化的催化剂。

2、在电子工业中用作强酸性腐蚀剂,可与硝酸、乙酸、氨水、双氧水配合使用。

3、用作分析试剂,也用于高纯氟化物的制备。是氟盐、氟致冷剂、氟塑料、氟橡胶、氟医药及农药等所必需的氟来源。

4、是生产冷冻剂“氟里昂”、含氟树脂、有机氟化物和氟的原料。在化工生产中可用作烷基化、聚合、缩合、异构化等有机合成的催化剂。还用于开采某些矿床时腐蚀地层,以及稀土元素、放射性元素的提取。在原子能工业和核武器生产中是制造六氟化铀的原料,也是生产火箭燃料和添加剂的原料,还可用于腐蚀玻璃和浸渍木材等。

5、用于有机或无机氟化物的制造,如氟碳化合物、氟化钠、氟化铝、六氟化铀和冰晶石等。也用于不锈钢、非铁金属酸洗,玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字,以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除、半导体(锗、硅)的制造。也用作染料合成。及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、试剂、发酵、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。

6、用于刻蚀玻璃,酸洗金属,制无机类氟盐产品及化学试剂。

7、用于原子能工业、制元素氟、氟化物,也可作催化剂、氟化剂等用于有机或无机氟化物的制造,也用于不锈钢、非铁金属酸洗、玻璃器皿磨砂和酸洗、磨砂灯泡的处理等。

 

氢氟酸可是一点儿也不轻浮啊。

CLEANFLAM为氢氟酸行业设计、制造、安装,氢氟酸废液废气焚烧炉。

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